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台湾積体電路(tsmc)、最先端の3ナノメートル技術開発が順調

  • 22 February, 2021
  • 早田健文
台湾積体電路(tsmc)、最先端の3ナノメートル技術開発が順調
世界的に影響力を高めている台湾最大の半導体メーカー、台湾積体電路(tsmc)の劉徳音・会長。(写真:ロイター)

台湾最大の半導体メーカーで、半導体受託生産(ウエハ・ファウンドリ)で世界最大の台湾積体電路(tsmc)では、最先端の超微細技術である3ナノメートル・プロセスの技術開発が、予定より早く順調に進んでいます。

tsmcの劉徳音・会長はこのほど、3ナノメートル・プロセスの開発計画が計画通りに進んでおり、しかも予測よりやや早く進んでいると語りました。ただし、どの程度、早く進んでいるのかは明らかにしませんでした。

tsmcの当初の計画では、3ナノメートル・プロセスは2022年下半期(7~12月)に量産を開始することが予定されています。5ナノメートル・プロセスに比べて、3ナノメートルはロジックの回路密度が70%高く、効率は15%高く、消費電力は30%少なくなります。すでに、高度演算機能およびスマートフォンに関する応用で、顧客からの発注が予定されています。

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